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| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma UVFS激光線反射鏡-4
高反射率（> 99％反射率）激光線鏡由石英制成，并涂有多層電介質或IBS鍍膜。適用于UV，VIS和NIR激光器。
Eksma UVFS激光線反射鏡-4
產品介紹
Ø高反射鏡（反射率> 99％）
Ø設計用于45°或0°入射角
Ø由紫外線等級的熔融石英制成
Ø對于由BK7材料制成的激光線鏡，請單擊此處
激光線反射鏡是介電反射鏡，在規定的激光波長下具有優良性能。我們的激光鏡由石英制成，并涂有多層電介質或IBS鍍膜。對于低波前畸變，低散射和高損傷閾值，鏡子亞表面的高拋光質量也很重要。
介電紫外熔融石英激光線鏡在UV，VIS和NIR光譜中涵蓋了廣泛的激光應用。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產品型號
UVFS; ø50.8x8 mm
型號 | D | ET | R, % (S+P)/2 | AOI | 波長 | 應用 |
045-0240 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 244-248 nm | KrF |
045-0240-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 244-248 nm | KrF |
045-0260 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 262-266 nm | Nd:YAG 4H |
045-0260-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 262-266 nm | Nd:YAG 4H |
045-0266 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 257-275 nm | Ti:Sa 3H |
045-0266-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 257-275 nm | Ti:Sa 3H |
045-0300 | 50.8 mm | 8 mm | 99.2% | 45° | 308 nm | XeCl |
045-0300-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.2% | 0° | 308 nm | XeCl |
045-0325 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 325 nm | HeCd |
045-0325-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 325 nm | HeCd |
045-0343 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 333-353 nm | Yb:KGW/KYW 3H |
045-0343-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 333-353 nm | Yb:KGW/KYW 3H |
045-0347 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 347 nm | Ruby |
045-0347-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 347 nm | Ruby |
045-0350 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
045-0350-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
045-0350T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
045-0350T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
045-0400 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 380-420 nm | Ti:Sa 2H |
045-0400-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 380-420 nm | Ti:Sa 2H |
045-0515 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 500-530 nm | Yb:KGW/KYW 2H |
045-0515-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 500-530 nm | Yb:KGW/KYW 2H |
045-0530 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 527-532 nm | Nd:YAG 2H |
045-0530-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 527-532 nm | Nd:YAG 2H |
045-0530T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 527-532 nm | Nd:YAG 2H |
045-0530T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 527-532 nm | Nd:YAG 2H |
045-0800 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
045-0800-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
045-0800T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
045-0800T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
045-1030 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
045-1030-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
045-1030T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
045-1030T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
045-1060 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
045-1060-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
045-1060T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
045-1060T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
基材
材料 | UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 typical at 633 nm |
S1表面質量 | 20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
S2表面質量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | + 0.00 mm, - 0.12 mm |
厚度公差 | ± 0.25 mm |
楔 | < 3 minutes |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術 | 電子束多層電介質或離子束濺射 |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。 不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85％ |
損壞閾值 | 6 J / cm2，8納秒脈沖，典型值1064 nm |
鍍膜表面平整度 | 通光孔徑下633 nm處的λ/ 10 |
入射角 | 0°或45° |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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